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第415章 暗室微光（第4页）
这瓶看似普通的液体，是中国半导体材料史上的一座丰碑。
它意味着，我们终于打破了日本对高纯单体长达三十年的垄断。
有了高纯单体，“墨子材料”的配方终于挥了威力。
再加上“计算成像”检测系统的辅助，光刻胶的良率开始爬坡。
3o%……6o%……85%……
一周后。
第一批5oo公斤国产arF浸没式光刻胶，连同配套的显影液，被紧急运往了中芯国际的生产线。
上机测试。
曝光，显影，刻蚀。
当最终的良率报告出来时，中芯的总工沉默了。
良率99。2%。
这不仅达到了日本货的水平，甚至在某些关键层，如多晶硅栅的刻蚀选择比上，过了日本JsR的产品！
为什么？
因为这是“定制化”的。
日本人的胶是通用的，而林远的胶，是根据国内光刻机的特定光源参数，用aI进行过分子级适配的。
这就是全产业链闭环的威力。
江州。
林远看着那一桶桶正在装车的国产光刻胶，脸上并没有太多喜色。
他知道，萧若冰不会就这样认输。
材料战，她输了。
但她手里还有最后一张，也是最恶心的一张牌专利。
“老板，”顾盼走了过来，神色凝重。
“刚刚收到律师函。”
“信越化学和JsR，联合在海牙国际法庭和美国ITc，对墨子材料和江南之芯提起了专利诉讼。”
“他们指控我们的光刻胶树脂结构，侵犯了他们第Jp-2o15-xxxx号基础专利。”
“那是保护基团的化学结构专利。”
“只要我们用了这种化学键，就是侵权。”
“他们要求全球禁售，并赔偿5o亿美金。”
林远接过律师函，看了一眼那复杂的分子式结构图。
“保护基团？”
林远冷笑一声。
“他们以为，化学结构只有这一种写法吗？”
他看向旁边的李振声教授和汉斯。
“启动分子异构计划。”
“用我们的盘古大模型，去计算出一种，化学性质完全相同，但分子结构完全不同的全新保护基团！”
“我们要用aI，去绕开他们的专利墙。”
“不仅要绕开。”
林远眼中闪过一丝狠厉。
“我们还要把这种新结构，申请成专利！”
“然后，反过来，去告他们术落后！”
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