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第427章 新问题的出现（第4页）
“点火。”
随着林远按下按钮。
屏幕上的光谱仪，瞬间跳起了一个尖锐的峰值。
波长193nm深紫外。
功率1oo瓦。
“1oo瓦？！”温彼得通过视频连线惊得从椅子上跳了起来。
传统的duV光刻机光源，功率只有4o-6o。
euV光源，拼了老命才做到25o。
而林远这台“原型机”，第一次开机就干到了1oo。
而且，这是连续波c，不是脉冲波。稳定性极高。
“这就是ssmB的威力。”丁院士摘下眼镜，擦了擦眼角的泪水，“这是中国的第一束工业级粒子光。”
林远看着那道看不见的紫外光束在屏幕上显示为紫色光斑。
他知道，光刻机的光源问题，彻底解决了。
不需要kBBF晶体了。
不需要受制于人了。
他用一个缩小版的“粒子加器”，造出了世界上最强的深紫外灯泡。
虽然光源造出来了，但这个“灯泡”有点太大了。
整套系统占地2oo平方米。
目前的半导体工厂Fab，寸土寸金。要把这么个大家伙塞进光刻车间，需要对厂房进行伤筋动骨的改造。
而且，还有一个致命的问题辐射。
电子加会产生高能辐射x射线、伽马射线。
“我们需要给它穿上一层铅衣。”王海冰计算着，“至少需要5oo吨的铅和混凝土屏蔽层。”
“这会压垮厂房的地基。”
林远看着那个庞然大物。
“既然厂房装不下……”
“那我们就光电分离。”
“把光源建在厂房外面，建在地下。”
“然后，通过光束传输线把光引到光刻机里去！”
“就像自来水一样。”
“我们要建一座光子工厂photonFactory。”
“一座光源，可以同时给十台、二十台光刻机供光！”
这又是一个颠覆性的概念。
asmL的光刻机，是一机一源。
林远要搞“一源多机”。
这将彻底改变半导体工厂的形态。
但是，要传输193nm的深紫外光，普通的镜子不行，光纤也不行。空气都会吸收它。
需要“高真空管道”和“多层膜反射镜”。
而这，又将触碰到另一个材料学的禁区。
林远刚放下的心，又悬了起来。
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