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第413章 计算之光（第2页）

显影，定影，电子显微镜扫描。

当图像出现在屏幕上时，马丁倒吸了一口凉气。

屏幕上，是一排排整齐的鳍式场效应晶体管结构。

线条边缘锐利，关键尺寸（cd）均一性极佳。

“线宽……38纳米单次曝光极限。”马丁喃喃自语，“这已经逼近了瑞利判据的物理极限。”

“如果配合saQp自对准四重曝光技术，”旁边的asmL席科学家补充道，“理论上，我们可以把这就距缩小到1o纳米以下。也就是7nm制程。”

“但这需要极高的套刻精度。”

“他们的算法里包含了非线性套刻补偿模型。”马丁指着数据日志，“你看，他们在计算掩膜版时，已经预判了晶圆在多次曝光过程中的热膨胀和机械形变，并提前做了反向补偿。”

“这是上帝视角。”

马丁转过身，看着站在玻璃窗外的林远，眼中没有了最初的怀疑，只剩下纯粹的技术敬畏。

他知道，asmL引以为傲的光学壁垒，被中国人的算力暴力给凿穿了。

回到会议室，谈判进入了实质性阶段。

这一次，温彼得的态度生了18o度转弯。

“林先生，测试结果令人印象深刻。我们原则上同意成立联合实验室。”

“但是，关于合作模式……”

“双向授权。”林远直接给出了方案。

“1。联合研实体在新加坡成立启明-asmL计算光刻联合实验室。该实验室为独立法人，不受美国法律管辖。”

“2。数据不出境asmL的光源核心数据，只能在新加坡的离线服务器上使用，不得传输回中国大陆。同样，我们的aI模型核心代码，也只在实验室内运行。”

“3。商业分成开出的女娲光刻软件，asmL拥有海外独家销售权，启明联盟拥有中国区独家使用权。销售利润五五分成。”

“4。硬件支持”林远盯着温彼得，“这是最关键的。我需要asmL承诺，优先保障启明联盟成员企业如中芯、华虹的duV光刻机零部件供应和维护服务。并且，在合规范围内，向我们出售最高配置的浸没式duV光刻机（nxT:2o5oi）。”

温彼得沉思了片刻。

这是一笔划算的买卖。asmL不需要付出任何核心硬件技术，仅仅是开放了一些软件接口和光学参数，就能获得一套世界领先的aI光刻系统，还能稳住中国这个最大的客户。

“成交。”温彼得伸出手。

“不过，林先生，我要提醒你。”温彼得压低了声音，“就算有了这套软件，有了duV。要做7nm，你们还缺一样东西。”

“什么？”

“光刻胶。”

“做多重曝光，对光刻胶的稳定性要求极高。目前，全球能生产arF浸没式光刻胶的企业，只有日本的JsR、东京应化和信越化学。”

“而这些公司……”温彼得意味深长地看了一眼林远，“都在东和财团的控制之下。”

林远的瞳孔微微收缩。

又是东和财团。

又是那个女人。

只要是在半导体这个圈子里，似乎永远绕不开她编织的那张大网。

“谢谢提醒。”林远面色不变，“光刻胶的问题，我会解决。”

第四现场国产化的最后一公里。

离开asmL总部，林远在车上立刻召开了视频会议。

参会者刘华美（科创基金）、王海冰（cTo）、以及那位刚刚被投资的国内光刻胶初创公司墨子材料的创始人，赵博士。

“赵博士，”林远看着屏幕，“我刚从荷兰拿到光。现在，我需要光刻胶。”

“日本人在卡我们的脖子。arF浸没式光刻胶，国内的进度到底怎么样？”

赵博士推了推眼镜，面露难色“林董，我们在树脂合成上已经突破了。但是，光刻胶是一个配方学。它包含树脂、光引剂、溶剂、添加剂等几十种成分。配比差万分之一，良率就掉一半。”

“而且，我们缺乏验证环境。光刻胶配方调出来，得上光刻机跑。但国内的晶圆厂产能宝贵，不敢让我们试错。”

“验证环境，我给你。”林远斩钉截铁。

“我让江钢集团，拿出一台二手的尼康光刻机，专门给你们做测试。”

“同时，我给你找了个老师。”

林远看向王海冰。